Babahani, O. and Khelfaoui, F. (2012) “Calcul des concentrations de molécules et de radicaux lors de déposition de couches minces a-Si:H par procédés PECVD”, Annals of Science and Technology, 4(2), p. 6. Available at: https://journals.univ-ouargla.dz/index.php/AST/article/view/291 (Accessed: 19March2026).