Modélisation numérique des propriétés électriques dans un pulvérisateur cathodique magnétron

Abstract

Pour étudier les paramètres électriques d’un plasma d'argon utilisé pour la déposition des couches minces de silicium dans un pulvérisateur cathodique magnétron alimenté par une source de tension radiofréquence de fréquence, nous appliquons le modèle fluide d'un système stationnaire unidimensionnel. Les propriétés électriques calculées sont la densité électronique, la densité ionique, le champ électrique et le potentiel électrique. Le modèle mathématique se base sur l'équation de continuité des électrons, l'équation de continuité des ions et l’équation de Poisson. Pour valoriser nos travaux nous appliquons ces résultats sur la sonde de Langmuir pour trouver la caractéristique courant -tension