Simulation Monte Carlo de réactions chimiques dans le volume d'un réacteur PECVD lors de déposition d'une couche mince a-C:H

  • Oumelkheir BABAHANI Univ Ouargla, Fac. des Mathématiques et des Sciences de la Matière, Lab. Rayonnement et Plasmas et Physique des Surfaces, Ouargla 30 000 (Algérie)
  • Fethi KHELFAOUI Univ Ouargla, Fac. des Mathématiques et des Sciences de la Matière, Lab. Rayonnement et Plasmas et Physique des Surfaces, Ouargla 30 000 (Algérie)
Keywords: réaction chimique, Simulation Monte Carlo, déposition, PECVD, a-C: H

Abstract

Ce travail présente une simulation par la méthode de Monte Carlo (SMC) des réactions chimiques qui se produisent dans le volume d'un réacteur PECVD lors de déposition d'une couche mince a-C: H élaboré à partir d'un mélange gazeux (CH4 /H2). En plus de CH4 et H2, les molécules et les radicaux considérés dans l'étude sont CH3, CH2, CH, C2H5, C2H6 et H. La SMC se base sur les collisions binaires. La SMC nous a permis d'obtenir les densités et les fractions molaires des particules ainsi que d'autres paramètres liés aux vitesses de réactions. Les résultats sont en bon accord avec d'autres travaux.

Published
2014-10-15
How to Cite
BABAHANI, O., & KHELFAOUI, F. (2014). Simulation Monte Carlo de réactions chimiques dans le volume d’un réacteur PECVD lors de déposition d’une couche mince a-C:H. Annals of Science and Technology, 6(2), 9. Retrieved from https://journals.univ-ouargla.dz/index.php/AST/article/view/400